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真空镀膜是指在高真空的条件下加热金属或非金属材料，使其蒸发并凝结于镀件（金属、半导体或绝缘体）表面而形成薄膜的一种方法。例如，真空镀铝、真空镀铬等。

真空镀膜是真空应用领域的一个重要方面，它是以真空技术为基础，利用物理或化学方法，并吸收电子束、分子束、离子束、等离子束、射频和磁控等一系列新技术，为科学研究和实际生产提供薄膜制备的一种新工艺。

真空镀膜的优缺点

1、优点

表面有较好的金属质感且细腻。

颜色较水电镀可解决七彩色的问题如魔幻蓝、闪银灯；水电镀颜色较单调，一般只有亮银、亚银等少数几种。

基材材质选用范围广，如PC、ABS、PMMA，（水镀只能选择ABS、ABS+PC）。

通过镀铟锡可做成半透的效果，灯光可以从产品中发出来。

不污染环境。

2、缺点

蒸镀靶材受熔点限制，太高熔点的不易采用。

真空蒸镀不过UV油，其附着力较差，要保证真空蒸镀的附着力，均需后续进行特殊的喷涂处理。

　与传统的电镀法相比,真空镀膜技术具有很多的优点,如装饰效果好,金属感强,成本低(约为传统电镀的1／3～1／2),污染小,易于操作等。特别在非金属物件的应用上,有着传统电镀无法比拟的优势。鉴于此,真空镀膜已被广泛应用于各种塑料、陶瓷、玻璃、蜡、木材等制品的表面金属化上。真空电镀的前处置在电镀出产线上是电镀技术中十分关键的一步，基体资料外表处置的好坏直接影响镀层的质量，因而应对电镀前处置恰当的注重。

 真空镀膜技术在塑料制品的应用上为广泛。塑料具有易成型，成本低，质量轻，不腐蚀等特点，塑料制品应用广泛，但因其缺点制约了扩大应用，如不美观、易老化、机械性能差、耐热差、吸水率高等。