五金镀膜厂家优惠报价,东莞泰坦金属制品
发布:2020-07-06 14:12,更新:2010-01-01 00:00
上述四种都属于物理气相沉积技术应用(PVD)。
接下来是化学气相沉积(CVD)。它是以化学反应的方式制作薄膜,原理是一定温度下,将含有制膜材料的反应气体通到基片上并被吸附,在基片上产生化学反应形成核,随后反应生成物脱离基片表面不断扩散形成薄膜。
束流沉积镀,结合了离子注入与气相沉积镀膜技术的离子表面复合处理技术,是一种利用离化的粒子作为蒸镀材料,在比较低的基片温度下,形成具有良好特性薄膜的技术。
真空电镀的前处置在电镀出产线上是电镀技术中十分关键的一步,基体资料外表处置的好坏直接影响镀层的质量,因而应对电镀前处置恰当的注重。
镀件的镀前处置是决议电镀质量的重要要素之一。在实习出产中,电镀故障率80%以上出在前处置工序,所以电镀前处置作用的好坏就显得尤为重要,下面详细介绍基体的外表状况对镀层布局和联系力的影响。
真空镀膜产品其膜面不仅亮度高,质感细腻逼真,同时制作成本较低,有利于环境保护,较少受到基材材质限制的优点,被越来越多的应用在化妆品外壳的表面处理。
真空镀膜的优缺点
1、优点
表面有较好的金属质感且细腻。
颜色较水电镀可解决七彩色的问题如魔幻蓝、闪银灯;水电镀颜色较单调,一般只有亮银、亚银等少数几种。
基材材质选用范围广,如PC、ABS、PMMA,(水镀只能选择ABS、ABS+PC)。
通过镀铟锡可做成半透的效果,灯光可以从产品中发出来。
不污染环境。
2、缺点
蒸镀靶材受熔点限制,太高熔点的不易采用。
真空蒸镀不过UV油,其附着力较差,要保证真空蒸镀的附着力,均需后续进行特殊的喷涂处理。
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