真空镀膜技术一般分为两大类，即物理气相沉积（PVD）技术和化学气相沉积（CVD）技术。物理气相沉积技术是指在真空条件下，利用各种物理方法，将镀料气化成原子、分子或使其离化为离子，直接沉积到基体表面上的方法。制备硬质反应膜大多以物理气相沉积方法制得，它利用某种物理过程，如物质的热蒸发，或受到离子轰击时物质表面原子的溅射等现象，实现物质原子从源物质到薄膜的可控转移过程。溅射镀膜又分为很多种，总体看，与蒸发镀膜的不同点在于溅射速率将成为主要参数之一。

基体外表状况对掩盖才能的影响

　　基体资料的外表状况是影响掩盖才能的主要要素之一。实习标明，金属在不一样基体资料上电堆积时，同一镀液的掩盖才能不一样也很大。如用铬酸溶液镀铬，金属铬在铜、镍、黄铜和钢上堆积时，镀液的掩盖才能顺次递减。这是因为当金属离子在不一样的基体资料上复原堆积时，其过电位的数值有很大的不一样。基体外表状况对联系力的影响联系力通常是指一个物体粘刭另一个物体上的规模和程度。过电位较小的分出电位较正，即便在电流密度较低的部位也能到达其分出电位的数值，因而其掩盖才能较好。

随着经济的发展和生活水平的提高，人们喜欢将手表壳、表带、服饰、灯饰、眼镜架、室内外装饰件、五金箱包、手机壳、手机视屏、卫生洁具、食品包装等装饰品精饰得五彩缤纷。

跟着真空镀膜加工等镀膜技术运用范畴的拓展，其面临的技术难点有以下一些方面，例如：

1、设备出资大，真空电镀加工槽的制备技术规范高，央求严，使一般出资者望而止步;

2、一般的真空镀膜加工出产中需要直流电，动力耗费大;

3、而一般的真空镀膜加工本钱高，因运用镀层金属阳极名贵，故而绑缚其运用方案;

4、但跟着市场经济的翻开，材料表面处理运用范畴逐渐拓展，市场需要日趋火燎。